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EAH Jena beteiligt sich an neuer Innovationsplattform in der Region Mittel-/Ostthüringen

Mit einer feierlichen Auftaktveranstaltung nahm am 01. Juni 2023 das Regionale Unternehmerische Bündnis für Innovation (RUBIN) „UKPiño – UltraKurzPuls-Innovationsplattform“ die Arbeit auf.

Die Ernst-Abbe-Hochschule (EAH) Jena ist Teil des Vorhabens, welches durch das Bundesministerium für Bildung und Forschung und die Europäische Union in den kommenden drei Jahren mit rund 14 Millionen Euro gefördert wird.

Mit maßgeschneiderten Anwendungen wird gesellschaftlichen Herausforderungen in den Bereichen Nachhaltigkeit, Energie und Klima, Gesundheit, Wirtschaft und Arbeit sowie Mobilität begegnet. Dafür wird eine innovative Lasertechnik auf der Basis von ultrakurzen Laserpulsen verwendet.

Der Einsatz von Ultrakurzpulslasertechnik bietet vielfältige Möglichkeiten im Bereich der hochpräzisen Materialbearbeitung. Um das volle Potenzial auszuschöpfen, verfolgt das Bündnis eine ganzheitliche Betrachtung, von der Laserquelle über geeignete Komponenten zur Strahlformung und -führung bis hin zur Wechselwirkung mit dem Werkstück. Damit wird die gesamte Wertschöpfungs- und Verwertungskette abgebildet. Neben der EAH Jena gehören die Friedrich-Schiller-Universität Jena (Uni Jena), 14 Unternehmen und sieben assoziierte Partner zum Konsortium.

Die Idee für das RUBIN-Vorhaben entstand aus den Vorarbeiten der beiden Forschungseinrichtungen Institut für Angewandte Physik (IAP) der Uni Jena und der EAH Jena. Im Rahmen der vom Freistaat Thüringen geförderten Forschergruppe „UKPFlex“ konnten durch die interdisziplinäre Zusammenarbeit der Arbeitsgruppen von Prof. Nolte (IAP) sowie Prof. Merker und Prof. Bliedtner (beide EAH Jena) wesentliche Grundlagen zur Wechselwirkung von ultrakurzgepulster Laserstrahlung mit silikatischen Werkstoffen erforscht und an optischen Spezialkomponenten demonstriert werden.

Neben innovativen Lösungen im etablierten Wellenlängenbereich von 1 µm setzt UKPiño einen besonderen Schwerpunkt auf den Wellenlängenbereich um 2 µm. Der Einsatz von 2 µm Strahlungsquellen eröffnet neuartige Anwendungen und Märkte, wie beispielsweise die Bearbeitung von Silizium-Halbleiterstrukturen oder Smart Textiles. Zusätzlich ergibt sich ein erweitertes Materialportfolio für den stetig wachsenden 3D-Druck sowie für medizinische Spezialanwendungen.

Wissenschaftlicher Ansprechpartner:

Prof. Dr. Jens Bliedtner, Fachbereich SciTec der EAH Jena

www.ag-bliedtner.de

Weitere Informationen finden Sie auf unserer Webseite:

http://www.eah-jena.de